1 【厚生労働省】公衆浴場における衛生等管理要領等の改正について
令和元年9月19日に厚生労働省より、“公衆浴場における衛生等管理要領等の改正について”が通知されました。
厚生労働省ホームページにて全文の確認が可能です。ただし、長文であるため下記に主な変更箇所を抜粋した新旧対象表を記載します(公衆浴場と旅館業の2種類がありますが、改正箇所はほとんど同一のため、公衆浴場の条文のみ記載しています)。
今までのとの違いをしっかり認識しておき、通知内容に則って施設設備の設計や、管理計画を進めることが求められてきます。
“公衆浴場における衛生等管理要領等の改正について”から抜粋
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改正後 |
改正前 |
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公衆浴場における衛生等管理要領
Ⅰ総則 第３ 特に留意すべき事項 近年の入浴施設では、湯水の節約を行うため、ろ過器を中心とする設備、湯水を再利用するための貯湯槽及びそれらの設備をつなぐ配管等により、複雑な循環系を構成することが多くなっている。また、かけ流し式浴槽施設においても、施設の大型化や多様化に伴い、温泉資源や湯量の確保を目的とした貯湯槽が設置されていたり、複数の浴槽への配水のために配管が複雑になっていたりしている。加えて、湯を豊富にみせるための演出や露天風呂、気泡発生装置、ジェット噴射装置等微小な水粒を発生させる設備（以下「気泡発生装置等」という。）や打たせ湯の設置など様々な工夫により、入浴者を楽しませる設備が付帯されるようになってきた。これまでのレジオネラ症の発生事例を踏まえると、これらの設備は衛生管理を十分行うことができるよう、構造設備上の措置が必要である。 浴槽水の微生物汚染は、入浴者の体表、土ぼこり等に存在する微生物が持ち込まれることにより発生する。さらに、それらの微生物は、常に供給される入浴者からの有機質により増殖し、ろ過器、浴槽や配管の内壁等に生物膜を形成する。しかも、その生物膜により、外界からの不利な条件（塩素剤等の殺菌剤）から保護されているため、浴槽水を消毒するだけではレジオネラ属菌等の微生物汚染を除去できない。そのため、浴槽水の消毒のみならず常にその支持体となっている生物膜の発生を防止し、生物膜の形成を認めたならば直ちにそれを除去しなければならない。ろ過器に次いで、配管は生物膜の形成場所となりやすいため、設計施工時に配管を最短にする、図面等により配管の状況を正確に把握し、既存の不要な配管を除去する等の対応が必要である。
気泡発生装置等を設置した浴槽や打たせ湯、シャワー等は、エアロゾルを発生させ、レジオネラ属菌感染の原因ともなりやすい。連日使用している浴槽水を気泡発生装置等を設置した浴槽で使用しない、打たせ湯等には再利用された浴槽水を使用しない等、汚染された湯水によるレジオネラ属菌の感染の機会を減らさなければならない。 新規営業開始時や休止後の再開時は、レジオネラ属菌が増殖している危険性が高いので、十分に消毒した後に営業開始、再開するよう注意すること。
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公衆浴場における衛生等管理要領
Ⅰ総則 第３ 特に留意すべき事項 近年の入浴施設では、湯水の節約を行うため、ろ過器を中心とする設備、湯水を再利用するため一時的に貯留する槽(タンク)及びそれらの設備をつなぐ配管を伴い、複雑な循環系を構成することが多くなっている。また、温泉水を利用する設備、湯を豊富にみせるための演出や露天風呂、ジャグジーや打たせ湯の設置など様々な工夫により、入浴者を楽しませる設備が付帯されるようになってきた。これまでのレジオネラ症の発生事例を踏まえると、これら設備の衛生管理、構造設備上の措置を十分行う必要がある。
浴槽水を汚染する微生物は、入浴者の体表に付着したり、土ぼこり及び露天風呂等から侵入する。温泉水等を利用する施設で一時的に湯を貯留する設備を設けると、それが微生物に汚染されやすい。これらの設備は、土ぼこりが入りにくくし、清掃や消毒を十分行うことが必要である。 また、浴槽水は、入浴者から各種の有機質が常に補給され、これらを栄養源として、ろ過器、浴槽や配管の内壁等に定着して微生物が定着・増殖する。しかも、その菌体表面に生産された生物膜によって、外界からの不利な条件(塩素剤等の殺菌剤)から保護されているため、浴槽水を消毒するだけではレジオネラ属菌等の微生物の繁殖は防げない。そのため、浴槽水の消毒のみならず常にその支持体となっている生物膜の発生を防止し、生物膜の形成を認めたならば直ちにそれを除去することが必要である。 ジャグジーや打たせ湯等は、エアロゾルを発生させ、レジオネラ属菌感染の原因ともなりやすいので、連日使用している浴槽水でジャグジー等の使用を控えたり、打たせ湯等で再利用された浴槽水の使用を控える等、汚染された湯水によるレジオネラ属菌の感染の機会を減らすことが必要である。
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Ⅱ施設設備 第１ 一般公衆浴場 4 浴室
(12) ろ過器を設置する場合にあっては、以下の構造設備上の措置を講じること。 1) ろ過器は、浴槽ごとに設置することが望ましく、１時間当たり浴槽の容量以上のろ過能力を有し、かつ、逆洗浄等の適切な方法でろ過器内のごみ、汚泥等を排出することができる構造であるとともに、ろ過器に毛髪等が混入しないようろ過器の前に集毛器を設けること。 2) 浴槽における原水又は原湯の注入口は、循環配管に接続せず、浴槽水面上部から浴槽に落とし込む構造とすること。
(14) 気泡発生装置等を設置する場合には、連日使用している浴槽水を用いる構造でないこと。また、点検、清掃及び排水が容易に行うことができ、空気取入口から土ぼこりや浴槽水等が入らないような構造であること。
(18) 水位計の設置は、配管内を洗浄・消毒できる構造、あるいは配管等を要しないセンサー方式であること。
(19) 配管内の浴槽水が完全に排水できるような構造とすること。
(22) 調節箱を設置する場合は、清掃しやすい構造とし、レジオネラ属菌が繁殖しないように、薬剤注入口を設けるなど塩素消毒等が行えるようにすること。
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Ⅱ施設設備 第１ 一般公衆浴場 4 浴室
(12) ろ過器を設置する場合にあっては、以下の構造設備上の措置を講じること。 1) ろ過器は、１時間当たり浴槽の容量以上のろ過能力を有し、かつ、逆洗浄等の適切な方法でろ過器内のごみ、汚泥等を排出することができる構造であるとともに、ろ過器に毛髪等が混入しないようろ過器の前に集毛器を設けること。 2) 浴槽における原水又は原湯の注入口は、湯水を浴槽とろ過器との間で循環させるための配管（以下「循環配管」という。）に接続せず、浴槽水面上部から浴槽に落とし込む構造とすること。
(14) 浴槽に気泡発生装置、ジェット噴射装置等微小な水粒を発生させる設備（以下「気泡発生装置等」という。）を設置する場合には、空気取入口から土ぼこりが入らないような構造であること。
(新規)
(新規)
(新規)
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Ⅲ衛生管理 第１ 一般公衆浴場 １ 施設全般の管理 (1) 施設整備は、次表により清掃及び消毒し、清潔で衛生的に保つこと。 なお、消毒には材質等に応じ、適切な消毒剤を用いることとし、河川及び湖沼に排水する場合には、環境保全のための必要な処理を行うこと。
（注）※１ 消毒方法は、循環配管及び浴槽の材質、腐食状況、生物膜の状況等を考慮して適切な方法を選択すること。消毒方法の留意点は、「循環式浴槽におけるレジオネラ症防止対策マニュアルについて」（平成13 年９月11 日健衛発第95 号厚生労働省健康局生活衛生課長通知）等を参考にすること。 ※２ 上記措置に加えて、年に１回程度は循環配管内の生物膜の状況を点検し、生物膜がある場合には、その除去を行うこと。 ※３ 作業従事者はエアロゾルを吸引しないようにマスク等を着用すること。また、貯湯槽の底部は汚れが堆積しやすく低温になりやすいので、定期的に貯湯槽の底部の滞留水を排水すること。また、貯湯槽の底部は汚れが堆積しやすく低温になりやすいので、定期的に貯湯槽の底部の滞留水を排水すること。
５浴室の管理 (3) 原水、原湯、上がり用水及び上がり用湯並びに浴槽水として使用する水は、「公衆浴場における水質基準等に関する指針」に適合するよう水質を管理すること。
(5) 浴槽水の消毒に当たっては、塩素系薬剤を使用し、浴槽水中の遊離残留塩素濃度を頻繁に測定して、通常0.4mg／L 程度を保ち、かつ、遊離残留塩素濃度は最大１mg／L を超えないよう努めること。結合塩素のモノクロラミンの場合には、３mg／L 程度を保つこと。また、当該測定結果は検査の日から３年間保管すること。
(9) 浴槽に気泡発生装置等を設置している場合は、連日使用している浴槽水を使用しないこと。気泡発生装置等の内部に生物膜が形成されないように適切に管理すること。
(11) 浴槽に湯水がある時は、ろ過器及び消毒装置を常に作動させること。
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Ⅲ衛生管理 第１ 一般公衆浴場 １ 施設全般の管理 (1) 施設整備は、次表により清掃及び消毒し、清潔で衛生的に保つこと。 なお、消毒には材質等に応じ、適切な消毒剤を用いることとし、河川及び湖沼に排水する場合には、環境保全のための必要な処理を行うこと。
（注）※１ 消毒方法は、循環配管及び浴槽の材質、腐食状況、生物膜の状況等を考慮して適切な方法を選択すること。消毒方法の 留意点は、「循環式浴槽におけるレジオネラ症防止対策マニュアル」等を参考にすること。
※２ 上記措置に加えて、年に１回程度は循環配管内の生物膜の状況を点検し、生物膜がある場合には、その除去を行うことが望ましい。 ※３ 作業従事者はエアロゾルを吸引しないようにマスク等を着用すること。また、貯湯槽の底部は汚れが堆積しやすく低温になりやすいので、定期的に貯湯槽の底部の滞留水を排水すること。また、貯湯槽の底部は汚れが堆積しやすく低温になりやすいので、定期的に貯湯槽の底部の滞留水を排水すること。
５浴室の管理 (3) 水道法（昭和32 年法律第177 号）第３条第９項に規定する給水装置により供給される水（以下「水道水」という。）以外の水を使用した原水、原湯、上り用水及び上り用湯並びに浴槽水は、「公衆浴場における水質基準等に関する指針」に適合するよう水質を管理すること。
(5) 浴槽水の消毒に当たっては、塩素系薬剤を使用し、浴槽水中の遊離残留塩素濃度を頻繁に測定して、通常0.2 ないしは0.4mg／L 程度を保ち、かつ、遊離残留塩素濃度は最大1.0mg／L を超えないよう努めること。また、当該測定結果は検査の日から3 年間保管すること。
(9) 浴槽に気泡発生装置等を設置している場合は、連日使用している浴槽水を使用しないこと。
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